半导体化学品
半导体化学品主要包括蚀刻液、剥离液、高纯试剂、清洗液、冷却液和含氟功能材料等系列产品，应用于显示面板、IC集成电路领域，是生产制程中的光刻、显影、蚀刻、剥离、清洗等制造工艺的关键化学品材料，对芯片的良率提升、显示面板画质的清晰度等起着重要的作用。
新宙邦凭借二十余年深耕精细电子化学品的经验积累，依靠高品质的产品和完善的质量管理体系赢得了客户信任，公司相关产品的纯度、金属杂质含量、颗粒数量和粒径、品质一致性、稳定性均满足要求，并且稳定供应行业客户。
未来新宙邦将充分利用自身技术、资源、地域等优势，不断完善生产基地的布局，持续提升产品研发和自主创新的能力，更好的为行业和客户创造价值，提供优质的产品和服务。
产品系列
高纯氨水、双氧水、异丙醇、硫酸是湿法清洗与刻蚀工艺的核心。超高纯度（金属杂质ppt级）与稳定性，是保障芯片高成品率与可靠性的基石。主要应用于集成电路硅片的RCA清洗工艺中，以一定比例组合成SC1、SC2和SPM等，去除金杂、有机物或particle。
特性
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高纯度
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低金属杂质
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低有机杂质
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低颗粒
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原料可控
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品质稳定
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定制化服务
用途
芯片
物联网
智能家居
数字基建
冷却液主要用于晶圆制造的机台冷却，高效、不可燃，环境友好，性价比高，稳定性好。清洗液主要用于晶圆制造、封装，OLED等制程中的清洗工艺，能去除晶圆、OLED表面杂质和蚀刻后残留物质，保证产品的洁净度。
特性
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高效
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环境友好
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稳定性好
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可定制
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长寿命
用途
半导体机台设备
芯片
数字基建
云计算
智能手机
车载显示屏幕
光配向剂是一种光学取向材料，通过光照射在聚合物膜上引发各向异性，从而实现液晶分子的定向排列。光配向技术采用非接触式取向方式，具有高效、稳定性优异等特点。该技术可实现长时间稳定驱动，满足不同产品的残影（IS）性能需求；同时支持边缘直线涂布，优化显示面板的窄边框设计；此外，其单层膜穿透率可达95%以上，并具备高纯度、低金属杂质等特性，确保产品的高品质表现。
特性（低阻产品）
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快离子释放
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高硬度
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高对比度
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较优AC IS
特性（中/高阻产品）
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高透过率
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高硬度
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高对比度
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较优AC IS
用途
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液晶显示面板
蚀刻液系列产品主要用于晶圆或面板制造中的湿法蚀刻制程，将光刻胶上的图案转移到光刻胶下面的各层材料，或者用于膜层的去除或减薄、干刻后膜层残留的去除等。
特性
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无残留
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高选择比
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兼容性强
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高品质
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品质稳定
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性能定制
用途
手机屏幕
液晶电视
车载显示屏幕
其他穿戴设备显示屏
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芯片
剥离液系列产品主要用于平板显示面板制造Array工艺中光刻胶剥离。产品性能优异，安全环保，可根据不同应用需求定制化开发。
特性
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安全环保
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性能优异
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定制化解决方案
用途
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手机屏幕
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LED电视
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车载显示屏幕
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其他穿戴设备显示屏
